课题组概况
课题组前身为中国科学院上海硅酸盐研究所第八研究室高分辨电子显微学实验室,成立于1981年,当时与北京物理所电镜室和沈阳金属所原子像实验室一起成为我国第一批高分辨电子显微学实验室。曾在国际上首次拍摄到YBCO高温超导材料的原子像和人牙的纳米柱晶结构,并作为封面照片刊登在国际期刊Materials Letter上。
目前课题组有成员4名,包括研究员1名、高级工程师1名和中级职称2名;另有在读研究生5名。工作人员的主要职责是为所内外提供TEM表征服务,包括项目的合作研究。实验室目前有透射电镜3台,包括JEM-2100F场发射透射电镜(200kV)、Tecnai F20场发射透射电镜(200kV,与国家重点实验室共用)和JEM-1400透射电镜(60~120kV),这些电镜分别配置了STEM(HAADF)扫描透射系统、EDS能谱、EELS谱仪和三维重构系统。制样设备包括完整的一套无机非金属材料TEM超薄片的制样系统,另外新引进了一套超薄切片系统,用于有机生物及粉体包埋等样品的超薄片制备。
部分研究成果介绍
• 一维纳米材料的气相法生长机制
对无模板无催化剂的气相法合成一维纳米材料的生长机制进行了TEM研究,a-Si3N4纳米带的高分辨照片揭示生长单元为结构多面体,由较短的堆垛矢量决定了生长过程中多面体的准螺旋堆垛方式,导致各向异性的生长模式。所提出的多面体准螺旋堆垛生长机制同样合理地解释了Si纳米线等低维纳米材料的生长习性,机理具有普适性。
• SiAlON:Ce荧光材料的掺杂结构与发光性能
原子分辨HAADF技术确立了Ce在SiAlON晶胞中的结构位置,发现Ce比其它较小的金属离子具有更高的配位数。Ce离子可富集在层错内,通过组建层错结构模型发现大量Ce稳定存在于层错内的结构原因,即通过在层错处形成一个大空腔有效释放了因高掺杂而导致的结构应变。结合SEM-CL表征发现Ce在a-SiAlON结构内不存在浓度淬灭,而高掺杂导致的发光强度降低源自层错的形状,平展的层错有利于发光的增强,而锯齿状的层错因偏位错浓度的增加而导致非辐射跃迁,即缺陷消光。
• Cu2Se热电材料结构相变的原位研究
长期以来研究人员集中关注常规的具有静态结构特征的化合物的性能调控规律,这是限制电热输运协同调控的重要原因。最近,能源中心的史迅等研究人员发现了材料动态相变过程中的临界特性可导致异常高的热电性能-巨热电效应,实现了利用临界相变特性调控电热输运。硒化亚铜(Cu2Se)化合物在400 K左右存在结构相变,低温相呈现复杂的层状特征,层内包括Se原子层之间分布四层铜原子。发生相变时,Cu原子克服Se原子层的束缚能量势垒向层间扩散,最后形成立方结构。实验和理论研究均证明该结构相变为典型的二级相变,存在动态临界特性,导致巨大的结构、化学成分、密度等剧烈涨落,从而对电子和声子造成强烈的临界散射。该临界涨落以及散射机制的改变可显著增加材料的塞贝克(Seebeck)系数,并使材料电导率和热导率下降,最终使热电性能在结构变化过程中有3-7倍的提高,热电优值在临界点附近达到2.3。在该项研究中,本课题组利用原位TEM技术,实时观察并分析了相变过程中的结构和微结构变化,佐证了相变中性能巨变的物理机制。
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