(苏州纳米技术与纳米仿生研究所)
姓名
时文华
性别
男
职位
职称
研究员
电话
0512-62872661
传真
0512-62872742
电子邮件
whshi2007@sinano.ac.cn
邮编
215123
地址
苏州工业园区若水路398号
简历
时文华，2002年毕业于中国科技大学物理系，同年进入中科院半导体研究所，2007年获得微电子专业工学博士学位。作为主要成员参与973项目“RCE长波长窄带响应光电探测器及响应带宽与量子效率制约关系”的研究，其中承担Si/SiGe纳米结构材料的生长与长波长RCE探测器的研制，对Ge/Si材料与器件有较深入了解。目前在苏州纳米所纳米加工平台，主要从事半导体器件与工艺的研究，侧重光刻工艺，包括接触式紫外光刻、全自动分布重复投影光刻、电子束光刻等。
研究领域
半导体器件与工艺的研究
侧重光刻工艺
