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品名
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溅射台（国产）
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型号
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GC4-2 (SN201208222)
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制造商
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所属单位
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苏州纳米技术与纳米仿生研究所（镀膜 加工平台）
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主要功能
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主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、等金属薄膜，各种氧化物薄膜，一次可溅射两寸片4片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±10%" 单次工艺2小时起约。请提前10分钟到场准备样品。
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技术指标
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溅射速率0.1A/s-10A/s，溅射功率0-200W溅射厚度：普通金属（Ni、Al、Ti、Ag、Cr、Cu）5nm-2000nm，贵重金属（Pt、Au）5nm-500nm；气体（Ar、O2、N2），流量范围0-100sccm。背底真空：5E-4Pa温度：20-400℃
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设备现状
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正常
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收费标准
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140/30分钟
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管理员
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马苏州
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联系方式
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设备照片
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