品名
PECVD(SYSTEM 100)
型号
SYSTEM 100 (SN200904073)
制造商
所属单位
苏州纳米技术与纳米仿生研究所（镀膜 加工平台）
主要功能
主要用于SiO2、SiNx、a-Si等介质膜的生长，一次可放置两寸片5片，四寸片和六寸片1片，薄膜不均匀性≤±3%。 预约友情提示： 低温工艺，请预约每天早上的第一炉工艺；掺杂（包括PH3、GeH4、B2H6、H2）、a-Si每天下午15:00以后可以预约。此类工艺请至少提前一天预约，以便设备做好相应准备。若有疑问，请致电62872627或者在预约备注中注明详细要求，否则后果需客户自己承担。
技术指标
SiH4流量0-50sccm，N20流量0-2000sccm，NH3流量0-500sccm， 温度范围80-350度，RF功率范围0-300W
设备现状
正常
收费标准
400/30分钟
管理员
张学敏
联系方式
设备照片
