品名
离子注入机
型号
NV-GSD-HE (SN201205101)
制造商
所属单位
苏州纳米技术与纳米仿生研究所（镀膜 加工平台）
主要功能
离子注入机是半导体器件掺杂工艺的关键设备，注入过程中可对剂量、能量、角度进行精确控制，从而改变半导体的载流子浓度与导电类型。
技术指标
注入能量：10keV～1MeV（单价离子）; 注入剂量：1E11～1E17 ions/cm2; 角度：±11°; 样品：6英寸（向下兼容），17片; 目前可进行硼、磷、氟、铝、氮、氩等离子注入。
设备现状
正常
收费标准
800/30分钟
管理员
邢政
联系方式
设备照片
